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首頁 > 光刻機(jī) > C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備
  • 產(chǎn)品名稱: C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

  • 產(chǎn)品類型: 光刻機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:

  • 發(fā)布時間: 2024-08-07


產(chǎn)品描述

C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

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詳情圖

C-25X200型 4英寸/6英寸 單面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備

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主要用途:

? 本機(jī)針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。

? 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

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主要性能指標(biāo):

1.?多種版夾盤

l?C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。

l?C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。

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2.?真空吸附基片的“承片臺”

l?C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”三個,分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。

l?C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺”五個,分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。

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3.?照明

l?光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

l?照明范圍:≤ф100mm

l?不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%

l?可使用的波長:g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。

l?成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在10mw/cm2)。
曝光分辨率:1μm

l?對準(zhǔn)精度:?1μm

l?套刻精度:?1μm

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4.?采用進(jìn)口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動快門,動作準(zhǔn)確可靠。

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5.?該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):

l?硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。

l?軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa -0.05MPa之間。

l?微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。

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6.?分辯率估計(jì)

如果用戶的“版”、“片”精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上

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7.?對準(zhǔn)

觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。

a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。

b.CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);

c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19&pide;1/3=57倍;

d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。

對準(zhǔn)臺:(采用片動,版不動方式)

X、Y調(diào)整:±5mm。

θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°

對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。

整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動。

“接觸、分離”20μm情況下,片相對于版的“漂移量”,可調(diào)到≤±0.5μm。

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8.?設(shè)備所需能源:

主機(jī)電源: 220V±10% ??50HZ

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

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9.?尺寸和重量:

尺寸:機(jī)體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。

重量:≤100Kg。

機(jī)體放在專用工作臺上。

工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。

高度可調(diào)范圍0~30mm。

重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。

總重量≤200Kg

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10.?C-25X200型光刻機(jī)的組成

l?主機(jī)

主機(jī)(含機(jī)體和工作臺)

對準(zhǔn)用單筒顯微鏡

蠅眼曝光頭

l?附件

主機(jī)附件

3"□型掩版夾盤

4"□型掩版夾盤(出廠時安裝到機(jī)器上)

用于2"基片的真空夾持承片臺。

用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時安裝到機(jī)器上)

(若需特殊的基片承片臺,訂貨時用戶提出)

顯微鏡組成

單筒顯微鏡二個

兩個CCD

視頻連接線。

計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。

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其他產(chǎn)品
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